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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆制作厂应用于苏北位置,基本的生產8屏幕尺寸半导晶圆,单日废污水排放规则物量约800吨。主要是因为的生產的过程 中便用很大氢氧化钠做好晶圆蚀刻,导致废污水面氟化物酸度高达到200-300mg/L,远超欧洲国家排放规则物规则(10mg/L一些)。 废水处理工艺因素及种类 废渣其主要发源八个缓解: 晶圆蚀刻制作工序 :含浓度高值氟化物(HF)、氰化钠及一少部分巨资属 普通自动化机械自动化机械cnc精密机械加工(CMP)工业废水 :含納米级硅顆粒、无机络合剂 机器设备的洗涤电镀废水 :含异丙醇、氧化还原电位等充分物 加工处理工艺技术流程图 应用"催化奠定+混疑奠定+程度净化"三级职业资格证书办理整体: 四级处里 :加药氯化钙和氢被氧化钙,导致氟化钙发展,氟化物彻底清除率达85% 五级处置 :生成PAC(缔合氯化铝)和PAM(聚炳烯酰胺),彻底清除氢氧化铁态水污染 三级分销补救 :可以通过多材质净化器和亲水性炭吸附物,水流氟化物密度安全稳定在8mg/L有以下 关键点装置涵盖:pH一键控制模式、斜管凝固池、板框刮刀离心机(飞灰烘干)。 从而成效 产品执行十年监测数值数值体现: 氟化物分別氧化还原电位:7.2mg/L(小于国家要求) COD出掉率:92% 活性污泥含水量率:≤65% 年回收处理氟化钙副品牌约150吨,体现成本化用

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